A fő különbségek közöttszilícium-nitrid szubsztrátés a szubsztrátum ezek meghatározásai, felhasználási területei és jellemzői.
Szilícium-nitrid hordozó:Szilícium-nitrid hordozóegy kerámia anyag, amelyet főként teljesítmény-félvezető eszközök, különösen teljesítménymodulok gyártásához használnak. Nagy hővezető képességgel, nagy mechanikai szilárdsággal és jó termikus illeszkedéssel rendelkezik, és alkalmas olyan alkalmazási forgatókönyvekre, amelyek nagy megbízhatóságot és magas hőmérsékleti ellenállást igényelnek. Subsztrát: Az alapfelület általában a forgácsgyártáshoz használt mögöttes tartószerkezetre utal. Az elterjedt hordozóanyagok közé tartoznak az egykristályos szilíciumlapkák, SOI-hordozók, SiGe-hordozók stb. A hordozó kiválasztása az alkalmazási követelményektől függ, például integrált áramkörök, mikroprocesszorok, memória stb.
Magas hővezetőképesség: A szilícium-nitrid hővezető képessége eléri a 80 W/m·K vagy annál magasabb értéket, ami alkalmas a nagy teljesítményű eszközök hőelvezetési igényeire. Nagy mechanikai szilárdság: Nagy hajlítószilárdsággal és nagy törési szilárdsággal rendelkezik, ami biztosítja a nagy megbízhatóságot. Hőtágulási együttható illesztése : Nagyon hasonlít a SiC kristály hordozóhoz, stabil illeszkedést biztosít a kettő között, és növeli az általános megbízhatóságot.
Szubsztrát
Különféle típusok: beleértve az egykristályos szilícium lapkákat, SOI szubsztrátumokat, SiGe szubsztrátumokat stb., minden hordozóanyagnak megvannak a sajátos alkalmazási területei és teljesítményelőnyei .
Széles felhasználási terület : Különféle chipek és eszközök, például integrált áramkörök, mikroprocesszorok, memória stb. gyártására szolgál.
Szilícium-nitrid szubsztrát : Főleg nagy teljesítményű eszközökhöz használják olyan területeken, mint az új energetikai járművek és a modern szállítópályák. Kiváló hőelvezetési teljesítményének, mechanikai szilárdságának és stabilitásának köszönhetően alkalmas magas megbízhatósági követelmények teljesítésére összetett környezetben .
Subsztrát: Széles körben használják a különféle forgácsgyártásban, és a konkrét alkalmazás a hordozó típusától függ. Például az egykristályos szilícium lapkákat széles körben használják integrált áramkörök és mikroprocesszorok gyártásában, a SOI szubsztrátok alkalmasak nagy teljesítményű, kis teljesítményű integrált áramkörökhöz, a SiGe szubsztrátokat pedig heterocsatlakozású bipoláris tranzisztorokhoz és vegyes jelű áramkörökhöz stb. .